Test &
Characterization
Wafer Sort, Final Test, ATE, Burn-in และ Reliability Analysis — กระบวนการที่ใช้ยืนยันคุณภาพของ chip ก่อนส่งมอบให้ลูกค้า
01 Semiconductor Testing Overview
การทดสอบ Semiconductor เป็นขั้นตอนสำคัญที่คัดกรอง die/package ที่ผิดปกติออก ก่อนส่งถึงลูกค้า ครอบคลุม functional test, parametric test และ reliability test ในมุมธุรกิจ งาน test ไม่ได้มีหน้าที่แค่หา pass/fail แต่ยังเป็นเครื่องมือควบคุมคุณภาพ, จัด speed bin, ป้อนข้อมูลกลับไปยัง design/process team และปกป้อง margin ของผลิตภัณฑ์ในระยะยาว
เข้าใจ MOSFET I-V curves, Vt extraction, Idsat, Ioff, BVds, GIDL — รู้ว่าต้อง measure อะไรเพราะอะไร ก่อนเขียน test program
Equipment: Keithley 4200 SCS, semiconductor parameter analyzer
Related: Device Physics · MOSFET I-V & Parametric Tests · CMOS Logic & Digital Basics · Double Pulse Test (DPT)
Path: Test Engineer (ATE / DFT), Power Semiconductor Engineer, RF / Analog IC Engineer
02 ATE — Automated Test Equipment
ATE คือระบบทดสอบอัตโนมัติ ประกอบด้วย tester (Teradyne, Advantest), handler/prober และ load board (Device Interface Board) ความท้าทายสำคัญของ ATE คือการวัดสัญญาณความเร็วสูงหรือสัญญาณอนาล็อกอย่างแม่นยำภายใต้เวลาทดสอบที่จำกัด เพราะทุกมิลลิวินาทีที่เพิ่มขึ้นอาจแปลเป็นต้นทุนการผลิตที่สูงขึ้นอย่างมาก
03 Wafer Sort
Wafer Sort (หรือ EWS — Electrical Wafer Sort) คือการทดสอบทุก die บน wafer ด้วย probe card ก่อนตัดแบ่ง โดย die ที่ไม่ผ่านจะถูกทำเครื่องหมายหรือบันทึกไว้ใน wafer map ขั้นตอนนี้สำคัญมากเพราะช่วยป้องกันไม่ให้ die ที่มี defect เข้าสู่ขั้น assembly ซึ่งมีต้นทุนสูงกว่า และยังช่วยให้ทีม process มอง pattern ของ defect บน wafer ได้เร็วขึ้น
04 Final Test
ทดสอบ package สำเร็จรูป ก่อนส่งให้ลูกค้า ต้องผ่านทุก test item ตาม datasheet spec ทั้ง min/max/typical conditions ในหลายกรณี final test ยังเป็นขั้นตอนที่ใช้จัด bin ของผลิตภัณฑ์ เช่นแยกตามความเร็วสูงสุด, leakage, RF output power หรือคุณลักษณะเฉพาะของแต่ละตลาด
| Test Category | สิ่งที่ทดสอบ | Equipment |
|---|---|---|
| Functional | Logic correctness, I/O behavior | Digital ATE (Teradyne UltraFLEX) |
| DC Parametric | VIL, VIH, IOL, IOH, IDD | SMU, PMU |
| AC Timing | Setup, Hold, Propagation delay | High-speed ATE |
| RF | S11, S21, NF, P1dB, EVM | Keysight / R&S + ATE |
| Power | IDDQ, IDDS, Icc per mode | PMU + ATE |
05 Reliability Testing
Reliability test ตาม JEDEC Standard เพื่อประเมินอายุการใช้งานและความทนทานในสภาวะเร่งรัด แนวคิดสำคัญคือการใช้ stress ที่แรงกว่าสภาวะใช้งานจริงเพื่อเร่ง failure mechanism ให้เกิดเร็วขึ้น จากนั้นจึงนำข้อมูลไปสร้างความเชื่อมั่นว่าผลิตภัณฑ์จะอยู่ได้ตามอายุที่ตลาดเป้าหมายต้องการ
| Test | ย่อ | Condition | วัตถุประสงค์ |
|---|---|---|---|
| High Temp Operating Life | HTOL | 125–150°C, 1000 hrs | Time-dependent failures |
| Highly Accelerated Stress | HAST | 130°C, 85% RH, 96 hrs | Moisture / Corrosion |
| Thermal Cycling | TC | −55°C to +125°C, 1000 cycles | Mechanical stress |
| ESD / Latch-up | ESD/LU | HBM, CDM, MM models | Electrostatic protection |
06 Yield Analysis
การวิเคราะห์ yield เพื่อหาสาเหตุ failure และ improve process — ใช้ wafer map, failure analysis (FA) เช่น SEM, FIB, OBIRCH งานนี้สำคัญมากกับชิปขนาดใหญ่และ advanced node เพราะ margin ด้าน yield มีผลต่อ gross margin ของธุรกิจโดยตรง และปัญหาเล็กน้อยใน process step เดียวอาจกระทบเป็นวงกว้างทั้ง fab
07 DFT & Scan Test
DFT (Design for Testability) คือการเพิ่ม hardware พิเศษในตอน design เพื่อให้ test ทำได้ง่ายขึ้น ถูกลง และครอบคลุมมากขึ้น ตัวอย่างหลักคือ scan chain ในชิปสมัยใหม่ DFT เป็นสิ่งที่ต้องวางแผนตั้งแต่ต้น ไม่ใช่แค่เพิ่มท้าย flow เพราะมันส่งผลต่อ area, timing, power, routing congestion และ strategy ของ production test โดยตรง
08 Failure Analysis (FA) Tools
เมื่อ die ไม่ผ่านการทดสอบ ต้องทำ failure analysis เพื่อหา root cause และส่งข้อมูลกลับไปยังทีม process หรือ design เพื่อแก้ไข ความยากของ FA อยู่ที่การเชื่อมโยงอาการทางไฟฟ้าที่เห็นจาก ATE ไปสู่ defect ทางกายภาพจริง ซึ่งอาจเป็นได้ตั้งแต่ particle contamination, via open, metal short, ESD damage ไปจนถึง marginal design issue
| Tool | ย่อ | หลักการ | ใช้หา |
|---|---|---|---|
| Scanning Electron Microscope | SEM | Electron beam imaging | Physical defect, CD measurement, Particle |
| Transmission EM | TEM | Electron transmission through thin sample | Atomic-level interface, Layer thickness |
| Focused Ion Beam | FIB | Ga ion beam เจาะ/ตัด sample | Cross-section prep สำหรับ TEM, Circuit edit |
| Optical Beam Induced Resistance Change | OBIRCH | Laser heating → ตรวจ resistance change | Leakage path, Short defect location |
| Emission Microscopy | EMMI | ตรวจ Photon emission | Hot electron, Latch-up, ESD damage |
| Energy Dispersive X-ray | EDX / EDS | X-ray element analysis | Material composition, Contamination |
ห้าม Deprocess ก่อน Localization เพราะอาจทำลาย Evidence
09 Advanced Packaging Test
เมื่อ chip หลายตัวถูกรวมกันใน Advanced Package (CoWoS, HBM, Chiplet) การ test ซับซ้อนขึ้นมาก เพราะต้องทดสอบทั้ง die-to-die interconnect และ package-level performance ปัญหาสำคัญคือ fault isolation ยากขึ้น, thermal interaction สูงขึ้น และต้นทุนของ package ที่เสียหลังประกอบเสร็จจะสูงกว่าชิปเดี่ยวมาก