⚗ FORMULA REFERENCE
PROCESS NODE
Intel 18A 1.8nm
TSMC N2P 2nm
Samsung SF2 2nm
TSMC N3E 3nm
Si Bandgap 1.12 eV
GaN Bandgap 3.4 eV
SiC Bandgap 3.26 eV
EUV Wavelength 13.5 nm
Electron μ(Si) 1400 cm²/Vs
Hole μ(Si) 450 cm²/Vs
HBM3E BW 1.2 TB/s/stack
NVIDIA B200 FP8 9,000 TFLOPS
DDR5 Speed 6400 MT/s
NAND Layers 300+ (2026)
Intel 18A 1.8nm
TSMC N2P 2nm
Samsung SF2 2nm
TSMC N3E 3nm
Si Bandgap 1.12 eV
GaN Bandgap 3.4 eV
SiC Bandgap 3.26 eV
EUV Wavelength 13.5 nm
Electron μ(Si) 1400 cm²/Vs
Hole μ(Si) 450 cm²/Vs
HBM3E BW 1.2 TB/s/stack
NVIDIA B200 FP8 9,000 TFLOPS
DDR5 Speed 6400 MT/s
NAND Layers 300+ (2026)
LEARNING CENTER
Topics Fab Process Leading Edge Glossary Formulas ✨ Virtual Cleanroom 3D
Jobs ทุนการศึกษา Market Hub Dashboard
400mm² Die • 15B+ Transistors • 3nm Node
SEMICONDUCTOR ENGINEERING HUB

FROM SILICON TO SYSTEM MASTERY

แหล่งรวมความรู้ด้านวิศวกรรมเซมิคอนดักเตอร์ — ตั้งแต่ฟิสิกส์ของ MOSFET ไปจนถึงกระบวนการ Fab ระดับ 2nm สำหรับนักศึกษาและวิศวกรมืออาชีพ

งานในระบบLIVE
ทุนการศึกษาLIVE
2nm Latest Process NodeLIVE
เริ่มเรียนรู้ → ดู Roadmap
เริ่มจาก → Device Physics Fab Cleanroom MOSFET Career Roadmap Glossary
SCROLL TO EXPLORE
// LEARNING CENTER

ศูนย์กลางการเรียนรู้
เซมิคอนดักเตอร์ครบวงจร

เข้าถึงทุกข้อมูลสำคัญ ตั้งแต่ทฤษฎีพื้นฐาน กระบวนการผลิตในโรงงาน จนถึงเครื่องมือออกแบบระดับมาตรฐานโลก

🚀
มือใหม่? เริ่มที่นี่เลย
แนะนำให้เริ่มจาก Device PhysicsMOSFETFab Cleanroom หรือดู Career Roadmap เพื่อวางแผนเส้นทาง
LEARNING PATHS
FAB PROCESS
ENGINEERING LAB
// TOPICS & CAREER ROADMAP

เลือกสายอาชีพ → เรียน topic ตาม stage

126 topics ทั้งหมด จัดเป็น 6 career paths × 6-7 stages — เริ่มจากพื้นฐานไปจนถึง advanced ตาม roadmap จริงของอุตสาหกรรม

// FAB PROCESS — 9 STAGES

คลิก step เพื่อดู preview

เส้นทางจาก raw silicon → finished IC ผ่าน 9 ขั้นตอนหลัก ในห้อง cleanroom

ดูขั้นตอนการผลิตทั้งหมด → 🚀 สัมผัส Cleanroom 3D
COMMERCIAL
Cadence Virtuoso

Analog/RF IC Design Standard

COMMERCIAL
Synopsys Design Compiler

Logic Synthesis for Digital IC

OPEN SOURCE
KLayout Viewer

GDS-II / OASIS Layout Editor

เข้าสู่ศูนย์รวมห้องทดลองทั้งหมด (Labs Hub) →
PROCESS TECHNOLOGY

Leading Edge Comparison

เปรียบเทียบเทคโนโลยีระดับแนวหน้าจากผู้ผลิตชั้นนำ

PRODUCTION
N3E
3nm
Density~290M tr/mm²
Power Reduction25-30%
Perf Improvement10-15%
EUV Layers25+
RAMP
18A
1.8nm
Density~360M tr/mm²
Power Reduction35%
Perf Improvement15%
GAARibbonFET
DEVELOPMENT
SF2
2nm
Density~330M tr/mm²
Power Reduction30%
Perf Improvement12%
GAAMBCFET
เปรียบเทียบเต็มรูปแบบ
FUTURE PROJECTION

The Roadmap to 2030

วิถีทางสู่อนาคตที่เล็กลงและทรงพลังยิ่งกว่า — ก้าวข้ามขีดจำกัดของกฎของมัวร์

2025
1.8nm / 2nm Era
การผลิตจำนวนมากของ 2nm ด้วยโครงสร้าง GAAFET และ Backside Power
2027
1.4nm (Intel 14A)
ยุคของ High-NA EUV เต็มรูปแบบ ลดความซับซ้อนของลวดลายวงจร
2029
1nm Node
การนำโครงสร้าง Complementary FET (CFET) มาใช้เพื่อลดขนาดเซลล์ลง 50%
2030+
Sub-1nm & Silicon Photonics
การรวมแสงเข้ากับชิปและวัสดุ 2D ใหม่ๆ (2D Materials)
INDUSTRY ARCHITECTURE

Global Ecosystem Map

เจาะลึกโครงสร้างอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ระดับโลก และบริษัทที่เป็นจิ๊กซอว์ชิ้นสำคัญในห่วงโซ่อุปทาน

85%
Foundries & IDMs
ผู้รับจ้างผลิต (Foundry) และ IDM ที่ถือครองเทคโนโลยีล้ำสมัยที่สุด
TSMC Intel Samsung Micron
92%
Fabless Design
ยักษ์ใหญ่ผู้ออกแบบชิป เน้นนวัตกรรมสถาปัตยกรรมระดับโลก
NVIDIA Apple AMD Qualcomm
78%
Equipment (WFE)
ผู้ผลิตเครื่องจักรและเครื่องมือ (ASML, AMAT) หัวใจของโรงงาน Fab
ASML Applied Materials Lam Research
95%
EDA & IP Core
ซอฟต์แวร์ออกแบบและพิมพ์เขียวสถาปัตยกรรม (ARM, Synopsys)
ARM Synopsys Cadence
💼
งาน & อาชีพ
โหลด...
🎓
ทุนการศึกษา
โหลด...
📊
Dashboard
ติดตามสมัครของคุณ
⚗️
Topics
12 หัวข้อหลัก
Σ
Formulas
สมการสำคัญ
LEARNING

Resources & References

หนังสือ, Papers และ PDK ที่จำเป็นสำหรับการเรียนและทำงาน

Resistivity (ρ)
Length (L)
Cross-section (A)
R = ρ · L / A — Ω
Work Function Diff (Φms)
Oxide Charge (Qox/Cox)
F (Surface Potential)
Qdmax/Cox
Threshold Voltage VT — V
Resistance (R)
Capacitance (C)
Length (L) - for wire delay
Time Constant τ = RC — ps
Elmore Delay (0.69τ) — ps
Substrate Doping (NA or ND)
Built-in Voltage (Vbi)
Relative Permittivity (εr)
Applied Bias (VR)
Depletion Width Wdep — nm
Temperature (T)
Cdep/Cox ratio
Interface Traps (Dit) [optional]
Cox (for Dit calc)
Subthreshold Swing — mV/dec
Ideal limit at 300K: 60 mV/dec (if Cdep/Cox = 0)
Device Type
VT or Vbi
μCox(W/L) or IS
VDD / Vmax
λ (Channel length modulation)
━ ID vs VDS ━ ID vs VGS
MATERIAL PROPERTIES (300K)
Material Eg (eV) μn (cm²/Vs)
Silicon (Si) 1.12 1400
Germanium (Ge) 0.67 3900
GaAs 1.43 8500
4H-SiC 3.26 900
GaN 3.40 1250
REFERENCE

Key Equations

สมการสำคัญที่ต้องจำในงานวิศวกรรมเซมิคอนดักเตอร์

DRIFT-DIFFUSION CURRENT
J = q·n·μE + q·Dn·∇n

กระแสในเซมิคอนดักเตอร์ประกอบด้วยส่วน Drift (จากสนามไฟฟ้า) และ Diffusion (จาก Gradient ของ Carrier)

MOSFET DRAIN CURRENT (SAT)
ID = ½·μn·Cox·(W/L)·(VGS−VT

Saturation Current ของ NMOSFET เมื่อ V_DS ≥ V_GS − V_T สำหรับ Long Channel Model

BUILT-IN POTENTIAL
Vbi = (kT/q)·ln(NA·ND/ni²)

แรงดันสร้างขึ้นเองที่ PN Junction จาก Doping Concentration ทั้งสองฝั่ง

SUBTHRESHOLD SWING
SS = (kT/q)·ln10·(1 + Cdep/Cox)

อัตราการเปลี่ยนแปลง I_D ต่อ V_GS ที่ Sub-threshold — Ideal Limit คือ 60 mV/dec ที่ 300K

DEPLETION WIDTH
Wdep = √(2εs·Vbi/q·NA)

ความกว้างของ Depletion Region ที่ PN Junction เป็นฟังก์ชันของ Built-in Voltage และ Doping

GATE OXIDE CAPACITANCE
Cox = εox / tox = ε₀·κ / tox

ค่า Capacitance ต่อหน่วยพื้นที่ของ Gate Oxide — High-κ Dielectric ช่วยเพิ่ม C_ox โดยไม่ต้องบางลง

SEMICONDUCTOR MATERIALS

Materials Comparison

เปรียบเทียบ Si, GaN, SiC, Ge, GaAs — คลิกเพื่อดู properties

QUIZ CHALLENGE

Semiconductor Quiz

ทดสอบความรู้แบบ interactive พร้อมคำอธิบายทุกข้อ สะสม XP จากคำตอบที่ถูกต้อง

QUESTION 1 / 8 SCORE: 0
Loading...
// WHY SemiMatrix

ทำไมต้องเรียนกับเรา

ออกแบบมาเพื่อวิศวกรและนักศึกษาด้าน Semiconductor โดยเฉพาะ

🇹🇭

ภาษาไทย 100%

อธิบายแนวคิดที่ซับซ้อนเป็นภาษาไทยที่เข้าใจง่าย ไม่ต้องแปลจากภาษาอังกฤษอีกต่อไป

🔬

เนื้อหาเชิงลึก

ครอบคลุมตั้งแต่ Device Physics, IC Fabrication, VLSI Design ไปถึง Advanced Packaging ระดับ 2nm

💼

Career-Focused

Job board, ทุนการศึกษา, Career Roadmap และ Resume tips สำหรับสายงาน Semiconductor

อัพเดตตลอดเวลา

ข้อมูล Process node ล่าสุด, งานใหม่, ทุนใหม่ อัพเดตอัตโนมัติจาก live database

🧪

Learning by Doing

Quiz ทดสอบความรู้, สูตรคำนวณ interactive, Fab Process simulator และ gamification

🌐

Industry Standard

เนื้อหาอ้างอิงจาก IEDM, ISSCC, ITRS/IRDS, IEEE และ process docs ของ TSMC, Intel, Samsung

// JOIN THE COMMUNITY

พร้อมเริ่มต้น
Semiconductor Journey?

สมัครสมาชิกฟรี รับ notifications งานใหม่, ทุนใหม่ และบทความวิชาการล่าสุด
พร้อมสะสม XP และ unlock badges ผ่านระบบ gamification

งานที่เปิดรับ
ทุนการศึกษา